Máy sắc ký ion helium để phân tích carbon tetrafluoride

Máy sắc ký ion helium thích hợp cho việc phát hiện các tạp chất dấu vết trong khí được sử dụng trong ngành công nghiệp điện tử, nồng độ phát hiện nhỏ có thể lên tới 5 ppb. Thiết bị được trang bị đầu dò ion hóa helium nhạy cảm cao, sử dụng công nghệ cắt trung tâm của Huaai, van mẫu đều có đường dẫn khí bảo vệ thổi; Toàn bộ máy thông qua thiết kế hộp đa cột và được trang bị hệ thống điều chỉnh tự động áp suất tiến hóa

Máy sắc ký ion helium để phân tích carbon tetrafluorideĐược trang bị đầu dò ion hóa helium nhạy cảm cao, sử dụng công nghệ cắt trung tâm của Huai, van mẫu đều có đường dẫn khí bảo vệ thổi; Toàn bộ máy áp dụng thiết kế hộp đa cột và được trang bị hệ thống điều chỉnh tự động áp suất mẫu để đảm bảo lượng mẫu của các lực lượng khác nhau. Sản phẩm lần lượt giành được dự án chuyển hóa thành quả công nghệ cao cấp A của thành phố Thượng Hải.

Dự án	Chỉ số
Chứng nhận: CE4) Độ tinh khiết (phần khối lượng)/10-2≥	99.999	99.995	99.99
Nitơ (N)2) Nội dung (phần khối lượng)/10-6＜	4	20	40
Oxy+argon (O)2+Ar) Nội dung (phân số thể tích)/10-6＜	1	5	10
Khí CO2 (CO)2) Nội dung (phần khối lượng)/10-6＜	1	5	10
Hàm lượng carbon monoxide (CO) (phân số thể tích)/10-6＜	0.1	0.5	1
Lưu huỳnh hexafluoride (SF)6) Nội dung (phần khối lượng)/10-6＜	1	1	5
Độ ẩm (H)2O) Nội dung (phân số khối lượng)/Nội dung, 10-6＜	3	5	10
Độ axit (như HF) Nội dung (phân số thể tích)/10-6＜	0.1	0.3	0.3
Các hợp chất halogen khácaNội dung (phân số khối lượng)/10-6＜	1	10	30
Tổng hàm lượng tạp chất (phần thể tích)/l0-6 ≤	10	50	10
Hạt	Cung và cầu thỏa thuận	Cung và cầu thỏa thuận	Cung và cầu thỏa thuận
Các hợp chất halocarbon khác bao gồm: hexafluoroethane, octafluoropropane, v.v.